全国统一热线:86-21-51083793
产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > 专用实验设备 > CVD制备设备 > 石墨烯CVD制备设备
石墨烯CVD制备设备

石墨烯CVD制备设备

简要描述:

这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。石墨烯CVD制备设备

打印当前页

免费咨询:86-21-51083793

发邮件给我们:marketing@auniontech.com

分享到:

石墨烯CVD制备设备

这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。

技术参数

1200双温区加热炉

电压 AC220V 50/60Hz

功率 4.5KW 双温控

Max温度 1150 °C

工作温度 ≤ 1100 °C

升温速率 ≤  15°C/min

温控系统 PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器

恒温精度 ±1°C

石英管 25/50/60/80*1400mm

 

三路质量流量控制系统

MAX电压 185~245V/50Hz

MAX输出功率  18W

流量计标准量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)

工作温度 5~45  °C

工作压差 0.1~0.5 MPa

MAX压力 3MPa

准确度 ±1.5%FS

 

低真空系统

采用双极旋片真空泵

不锈钢充油真空压力表,良好的抗震性

安装过滤器

 

内置测温系统

测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封,保证炉管的密封性测温元件,N型热电偶

 

法兰及支撑

304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀,一个卡箍就能完成法兰的连接,放取物料方便快捷可调节法兰的支撑,平衡炉管的受力支撑。包含进气,出气,真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封硅胶圈等。

 

可选配件

混气系统,中,高真空系统,各种刚玉坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机。

 

留言框

  • 产品:

  • 留言内容:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 详细地址:

  • 省份:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7

上一篇 : 滑动式二硫化钼CVD制备设备    下一篇 :  X射线屏
上海昊量光电设备有限公司 版权所有    网站地图    沪ICP备08102787号-3    技术支持:化工仪器网

地址:上海市徐汇区漕宝路86号,光大会展中心F座2802室
在线客服
电话
86-21-51083793
手机
15601689581