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滑动式二硫化钼CVD制备设备

滑动式二硫化钼CVD制备设备

简要描述:

硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计(在1000Pa以上测量不受气体种类影响,耐硫蒸气腐蚀),通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定,在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。滑动式二硫化钼CVD制备设备

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滑动式二硫化钼CVD制备设备

一、 概述
硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计(在1000Pa以上测量不受气体种类影响,耐硫蒸气腐蚀),通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定,在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。
二、  设备组成
HCVD-1200S双温区管式炉,HTF400C硫粉预热器(双温区管式炉与预热器可滑动),质量流量计供气系统,机械式真空泵等组成。
 三、  主要技术参数
硫粉预热器 

型号:HTF-400C

工作温度:350℃

MAX温度:400℃

MAX升温速率:30℃/min

推荐升温速率:10℃/min

控温方式:智能化30段可编程控制

工作电压:AC220 V额定功率:800W

控温精度:±1℃

加热元件:电阻丝 

双温区硫化炉 

型号:HCVD-1200S

技术参数:额定功率(KW):3

额定电压(V):AC220v  50/60 Hz

MAX温度(℃):1200(1 hour)

持续工作温度(℃):1100

升温速率(℃/min):≤50

炉管尺寸(mm):高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度(mm):440mm

恒温区长度(mm):200mm 

控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝
供气系统GMF3Z 

质量流量计重量:35Kg

外形尺寸:600x600x650mm

连接头类型:双卡套不锈钢接头

标准量程(N2标定):50sccm、200sccm、500sccm; (可根据用户要求定制)

准确度:±1.5%线性:±0.5~1.5%重复精度:±0.2%

响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围:0.1~0.5 MPa MAX压力:3MPa

接口:Φ6,1/4''

显示:4位数字显示

工作环境温度:5~45℃

内外双抛不锈钢管:Φ6

压力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格 

截止阀:Φ6
低真空机组VAU-02 

技术参数:

空气相对湿度≤85%

工作电电压:220V±10%  50~60HZ

 功率:1千瓦

抽气速率:4Ls

极限真空:4X10-2Pa

实验真空度:1.0X10-1Pa

容油量:1.1L

进气口口径:KF25

排气口口径:KF25

转速:1450rpm

噪音:50dB

外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉尘过滤器,DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力,INFICON PCG554复合真空计

 

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