<昊量/星朗 定制透射和反射X射线光栅-上海昊量光电设备有限公司
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昊量/星朗 定制透射和反射X射线光栅

简要描述:昊量/星朗 定制透射和反射X射线光栅(个性化定制全场景适配),支持透射式与反射式结构、不同基底和金属膜层配置,适用于X射线光谱、同步辐射、EUV及高能光束线等应用。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-08-06
  • 访  问  量:14
详细介绍
品牌昊量光电供货周期现货
应用领域综合产品类型透射式/反射式X射线光栅
栅距范围40nm-8μm线密度250-50000线/mm
膜层材料金/镍/铂/钨/钌基底材料Si3N4/SiC/Si/玻璃
膜厚范围50nm-1000nm加工分辨率半节距20nm
工作能量20eV-1500keV

昊量/星朗 定制透射和反射X射线光栅

昊量/星朗 定制透射和反射X射线光栅(个性化定制全场景适配)

应用纳米工具(Applied Nanotools Inc.,简称ANT)成立于2002年,是纳米微纳加工、集成光子芯片与X射线光学元器件专业代工厂,深耕电子束光刻微纳制造领域二十余年,专注为科研机构、光学实验室、半导体及光通信企业提供超高精度纳米结构加工、定制光学器件研发与小批量量产服务,助力前沿成像、传感、光通信、高性能计算等领域实现技术突破。



该产品简介一:

是一种允许光线通过并产生衍射效应的光学元件。它通常由一系列平行且等间距的刻线或狭缝组成,这些刻线或狭缝可以透光,而它们之间的区域则不透光。当入射光穿过透射光栅时,光线会在每个刻线或狭缝处发生衍射,形成多个衍射级次。这些衍射光束在空间中相互干涉,形成特定的衍射图案,从而实现对光的色散和分析。广泛应用于光谱仪、分光光度计等光谱分析仪器中;也用于干涉测量、全息术等领域中的高精度测量和成像任务。



该产品简介二:

是一种利用镜面反射原理使光线产生衍射效应的光学元件。它的表面通常镀有一层金属膜或其他高反射材料,以提高反射效率。反射光栅同样由一系列平行且等间距的刻线或凹槽组成,但这些刻线或凹槽是刻在反射面上,而不是穿透整个元件。当入射光照射到反射光栅上时,光线在每个刻线或凹槽处发生反射和衍射。这些反射和衍射光束在空间中相互干涉,形成特定的衍射图案。由于反射光栅利用了镜面反射原理,因此它可以更有效地利用光能,减少能量损失。常用于天文望远镜、激光测距仪等高精度光学仪器中;也适用于大型光学系统中的光束控制和校准任务。


定制用于极紫外光和高能X射线系统的透射光栅。我们的直接写入、快速穿插工艺允许从数百微米到毫米的更高分辨率光栅。各种金属可以在 Si3N4、SiC 或Si 的薄膜上制造。


该产品简介三:

针对 X 射线波段设计的衍射光学元件,利用周期性微纳结构对 X 射线发生衍射、分光、偏转、调制,核心分为透射式和反射式两大类。透射 X 射线光栅是X射线直接穿过光栅基底完成衍射的,可用于软X射线、X 射线成像、光谱探测、脉冲整形等。反射X射线光栅是 X 射线以掠入射角度打在光栅表面,反射后发生衍射,主流用于同步辐射、X 射线光谱仪、EUV、高能光束线。


该产品的优势


·高分辨率

分辨率可达半节距 20 纳米,等效 50000 线对/毫米。

·定制膜方案

光栅可以制造在硅基或玻璃基材上。对于透射光栅,可用的基材包括薄层氮化硅、碳化硅或厚度在50 纳米至1000 纳米之间的硅膜,基材可以根据应用需求选择。

·高深宽比

高分辨率直写图形工艺可制备定制化结构及适用于硬 X 射线领域的高效率光栅。支持金、镍、铂、钨等金属材料,可实现正胶图形与负胶图形两种光刻模式。

·定制化应用

我们的定制光栅可应用于同步辐射装置及实验室设备,适配多种使用场景。


栅格设计参数展示(可根据要求定制设计)

器件

基底材料

膜厚度

栅距

线密度/mm

刻线与缝隙/mm

膜层

面积

设计工作能量

500um-80nm-钨

100nm

80 nm

25000

12500

50-100纳米氮化硅

500微米×

500微米

200-1000 eV

500um-80nm-钨

55-150 nm

40 nm

50000

25000

50-100纳米碳化硅

500微米× 500微米

20-1000 eV

1000um-80nm-钨

100nm

80 nm

25000

12500

50-100纳米氮化硅

1000微米× 1000微米

200-1000 eV

500um-50nm-金

150-200 nm

50 nm

40000

20000

50-100纳米氮化硅

或碳化硅

500微米×

500微米

200-1500 keV

1000um-50nm-金

150-200 nm

50 nm

40000

20000

50-100纳米氮化硅或碳化硅

1000微米× 1000微米

200-1500 keV

2mm-2um-金

4-5μm

4μm

500

250

100-1000纳米氮化硅或碳化硅

2毫米×

2毫米

3-12 keV

4 mm-2um-金

4-5μm

4μm

500

250

100-1000纳米氮化硅或碳化硅

2毫米×

2毫米

3-12 keV

2 mm-4um-金

6-8μm

8μm

250

125

硅或硅片

2毫米×

2毫米

8-20 keV



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