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SEM刻蚀子系统

简要描述:SEM刻蚀子系统:XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束(例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束)转向的相应偏转信号的系统。可以连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光设备上,升级系统,在半导体或其他材料上进行纳米光刻。

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  • 更新时间:2024-06-13
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详细介绍
品牌其他品牌价格区间10万-30万
组件类别其他应用领域综合

SEM高速刻蚀子系统


XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束(例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束)转向的相应偏转信号的系统。可以连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光设备上,升级系统,在半导体或其他材料上进行纳米光刻。

高速刻写


可以实现高达40MHz的像素速率。由于采用了智能写入算法,可以考虑当前SEM的有限偏转带宽。优化的数据传输和稳定时间计算与高写入速度相匹配,以提供快速写入的所有优点。


智能且通用的格式


使用三阶多项式扫描逻辑,可以仅基于硬件以Max速度生成和写入这些多项式。因此,圆形、环形或椭球体可以由同心的单像素环书写,通常在曝光过程中不需要消隐。并且,可以用Min的数据开销和传输时间来实现理想的写入速度和近似质量。此外,与结构的多边形部分的光栅扫描相比,偏转信号的正弦形状消耗的偏转带宽要小得多。同时,写入算法对称地使用X轴和Y轴的带宽。


高灵活性


模块化系统可以进行配置,以满zu您的需求。逻辑配置和DSP内核可以在几分钟内更新,以提供新功能。


配置高,应用界面友好


完整的偏转信号生成是在每轴16/32位的可编程逻辑器件中实现的。特别是场校正不使用带宽限制的乘法模拟DAC,而是数字构建的,工作到Max写入速度,而在产生的偏转信号中没有任何失真。

控制软件ECP基于Linux或Windows使用,CAD部分可在工作组中自由使用。



SEM刻蚀子系统应用图例:



** 进一步配置要求,详情可咨询上海昊量光电设备有限公司。


更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电

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