<50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统-上海昊量光电设备有限公司
15601689581
当前位置:主页 > 产品展示 > 光谱仪 > 拉曼光谱仪 > 50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统

50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统

简要描述:50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统采用透射式光路设计,提高了产品的灵敏度和稳定性。独特的振镜扫描技术能够在台面固定不动的情况下实现快速二维成像扫描。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-01-15
  • 访  问  量:51
详细介绍

 Nanobase50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统采用透射式光路设计,提高了产品的灵敏度和稳定性。独特的振镜扫描技术能够在台面固定不动的情况下实现快速二维成像扫描。该技术在联用光电流成像系统载台时优势明显,并且可扩展增加荧光寿命检测系统。

     XperRam C series是基础款,采用一个532nm激光器激发,集成了奥林巴斯显微镜,可以测量样品的Raman/PL的光谱信号和mapping(Image)图像。光谱信号强,扫描速度快,超高性价比。

50万RMB!高速大面积共聚焦拉曼成像系统

 

系统光路

 

 

 

拉曼成像mapping

 

 

                                      (a)     MoS2 sample microscope image                 (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity  image

                                        (c)     30x30µm size 0.1µm step Intensity image    (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image

 

 

 

产品特点

  •  
  •  
  • 具有优异的扫描分辨率和重复性

(激光扫描分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm)

  • 体相全息光栅光谱仪(光透过率>90%,比反射式光栅高30%,信号传输效率更高)
  • 具有Raman/PL等多种测量模式,可扩展为光电流成像功能
  • 结构紧凑,模块化设计
  • 扫描速度快,扫描范围大200µm x 200µm范围内高速成像 & 2D Mapping

应用领域

石墨烯,二维材料,生物样本,半导体工业,碳纳米管,碳材料,太阳能电池,储能材料,纳米纤维分布,探测器光电性能检测,晶圆体分析,制药分析,纳米材料检测,生物细胞成像,微塑料检测,金刚石微粉检测。

 

基本参数

 

激光器

  • 一个CW DPSS激光器
  • 激光器波长:405nm/532nm/633nm(532nm通用型号)
  • 输出:最大100mW

显微镜

  • 奥林巴斯显微镜:BX4X, BX5X, BX61 (正置)
  • 反射式/透射式LED照明
  • 物镜:标配(40X, NA=0.75)   选配:多种倍率和超长焦距物镜
  • 透过率:>60% (360nm~1000nm)

扫描模块

  • 扫描面积:200um×200um   (最大)
  • 扫描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重复性)
  • 最小步进:0.1um
  • 扫描速度:>20 谱/秒

探测器

  • 科学级TEC制冷ccd
  • 分辨率:1932×1452   Pixels

光谱范围

  • 最大 203750px-1
  • 低:250px-1(需额外加低波数模块,通用型号1250px-1

光栅选择

  • 300/600/1200/1800/2400  lpmm (可选)

其它附加选项

  •  
  • 偏振控制
  • 功率控制ND滤波片

 

使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光谱仪发表的部分文献:


1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
影响因子: 12.08 期刊名称: NANO Letters2016  作者单位: 首尔国立大学物理与天文学系, 通讯作者: Hyeonsik Cheong
2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
期刊名称: Construction and Building Materials2016  作者单位: 全南国立大学高分子科学与工程学院, 通讯作者: Ji Hoon Kim
3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
影响因子: 8.097 期刊名称: ACS Applied Materials and Interfaces2018  作者单位: 成均馆大学, 通讯作者: Young Hee Lee

产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 留言内容:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 详细地址:

  • 省份:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
产品中心
光谱仪
新闻中心
技术文章
公司新闻
技术文章
关于我们
公司简介
人才招聘
联系方式
上海市徐汇区漕宝路86号光大会展中心F座3楼
info@auniontech.com

昊量微信在线客服

昊量微信在线客服

版权所有 © 2021上海昊量光电设备有限公司 备案号:沪ICP备08102787号-3 技术支持:化工仪器网 管理登陆 Sitemap.xml